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水熱合成反應釜加熱機構組成及降溫原理

更新日期:2020-08-04      瀏覽次數:2370
   水熱合成反應釜加熱機構是介質材料在高頻電場的作用下發生分子極化現象,并按電場方向排列,因高頻電場以極快的速度改變分子方向,則介質材料就會因介電損耗而發熱。高頻電流流向被繞制成環狀或其它形狀的加圈。由此在線圈內產生極性瞬間變化的強磁束,將金屬等被加熱物質放置在線圈內,磁束就會貫通整個被加熱物質,反應釜加熱機構在被加熱物質內部與加熱電流相反的方向產生很大的渦電流,由于被加熱物質內的電阻產生焦耳熱,使物質自身的溫度迅速上升,這就是感應加熱的原理。
  水熱合成反應釜是一種能分解難溶物質的密閉容器。可用于原子吸收光譜及等離子發射等分析中的溶樣預處理;也可用于小劑量的合成反應;還可利用罐體內強酸或強堿且高溫高壓密閉的環境來達到快速消解難溶物質的目的。在氣相、液相、等離子光譜質譜、原子吸收和原子熒光等化學分析方法中做樣品前處理。
  水熱合成反應釜加熱完成后,從烘箱中取出后讓它自然冷卻,會非常緩慢,為什么不可以用涼水降溫呢?
  如果反應釜溫度很高一般在200℃左右的話,水冷是沒問題的,但是建議好不要這么做,否則你的內膽很難打開,而且對儀器本身壽命有影響。這樣做雖然沒有任何危險,但會對反應釜有影響,一般自然降溫2個小時即可。
  水熱合成反應釜可在鉛、銅、鎘、鋅、鈣、錳、鐵、汞燈重金屬測定中應用,還可作為一種耐高溫耐高壓防腐高純的反應容器,以及有機合成、水熱合成、晶體生長或樣品消解萃取等方面。在樣品前處理消解重金屬、農殘、食品、淤泥、稀土、水產品、有機物等。
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